# 【251】卷绕式磁控溅射柔性镀膜机

## 基本信息
- **作者**：周兴宝
- **专利权人**：东泰高科装备科技(北京)有限公司
- **来源**：源文件/文献/卷绕相关/卷绕式磁控溅射柔性镀膜机.pdf
- **阅读日期**：2026-04-21
- **理解程度**：⭐⭐⭐

## 核心内容

### 研究背景/目的
- 针对现有磁控溅射卷绕镀膜技术存在的基材起皱、微观划伤、表面变形、镀膜碎片污染、镀膜效率低等问题
- 解决现有设备功能单一，只能生产金属膜层或非金属膜层的局限性
- 提供一种既能提高镀膜效率又能减小设备体积的新型卷绕式磁控溅射柔性镀膜机

### 关键结论
1. 采用折线形传输方式形成三角形镀膜区域，配合双磁极式旋转靶材机构，可实现一次通过两次镀膜，镀膜效率近两倍于传统平面靶材
2. 设备体积小，制造维护成本低，通过紧凑设计将镀膜腔做小，整体设备体积减小
3. 综合应用水冷导辊和喷气导辊，有效解决基材起皱和膜层划伤问题
4. 具备金属膜层和非金属膜层双重镀膜能力，设备通用性强

### 重要数据/参数
| 参数 | 值 |
|------|-----|
| 专利类型 | 实用新型专利 |
| 申请号 | 201821271931.5 |
| 申请日期 | 2018.08.08 |
| 授权日期 | 2019.03.05 |
| 专利分类号 | C23C 14/35, C23C 14/56 |
| 结构类型 | 三种卷绕机构设计方案 |

## 与其他文献的关联

### 印证点
- 与《磁控溅射技术原理与应用》中磁控溅射具有膜层致密、粘结力强、纯净度高的观点一致
- 与《真空卷绕镀膜工艺》中柔性基材镀膜需要解决起皱和划伤问题的观点相符
- 与《旋转靶材技术》中旋转靶材利用率高于平面靶材的结论一致

### 矛盾点
- 与《传统平面靶材镀膜》中强调大面积均匀镀膜的观点存在差异，该专利更注重紧凑高效的小型化设计
- 与《单一功能镀膜设备》的设计理念不同，本专利强调多功能集成和通用性

## 个人理解/提炼
- 核心创新在于将柔性基材的折线形传输与双磁极式旋转靶材结合，形成紧凑的三角形镀膜区域，实现高效镀膜
- 水冷导辊和喷气导辊的混合应用是解决柔性基材镀膜痛点的关键：水冷导辊解决起皱问题，喷气导辊解决划伤问题
- 双改向导辊设计使设备具有两种进出料方式：一端进一端出适合长腔室多镀膜层，同端进出适合紧凑型设备
- 对实际工作的启发：在柔性电子、包装材料、光学薄膜等领域，小型化、高效率、多功能的镀膜设备具有重要应用价值。喷气悬浮技术的应用为高精度膜层保护提供了新思路

## 待深入/疑问
- 文献中提到的"双磁极式旋转靶材机构"具体技术参数和性能指标未详细说明
- 喷气导辊的气源要求、气压范围、气体消耗量等工艺参数未提及
- 设备的实际生产速度、幅宽、适用的基材厚度范围等关键性能指标未明确
- 中频孪生旋转靶材与双磁极式旋转靶材的协同工作机制和切换逻辑需要进一步了解
- 设备的真空度要求、抽气时间、运行能耗等实际运行参数需要验证