# 文献库标签索引

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## #溅射源

- 06_卷到卷褶皱_郭毅2020.md
- 11_HiPIMS进展_暴一品2015.md
- 07_辅助阳极_HiPIMS_李春伟2016.md
- 100_真空离子镀膜_张以忱.md
- 194_等离子体增强溅射技术中辅助阳极的性能模拟与参数优化_张以忱2013.md
- 195_真空溅射镀膜_磁控溅射放电特性与功率效率_张以忱2016.md
- 196_真空溅射镀膜_膜厚均匀性与射频溅射_张以忱2016.md
- 197_真空溅射镀膜_非平衡磁控溅射的磁场设计_张以忱2016.md
- 198_真空溅射镀膜_反应磁控溅射的迟滞与靶中毒_张以忱2017.md
- 199_真空溅射镀膜_自动灭弧与中频交流反应磁控溅射_张以忱2017.md
- 204_真空溅射镀膜_四靶非平衡磁场与带电粒子输运_张以忱2016.md
- 205_真空溅射镀膜_反应磁控溅射打弧机理与抑制_张以忱2017.md
- 206_真空溅射镀膜_PEM控制与非对称脉冲溅射_张以忱2018.md
- 213_真空溅射镀膜_旋转圆柱靶与靶材利用率提升_张以忱2016.md

## #辅助阳极

- 07_辅助阳极_HiPIMS_李春伟2016.md
- 194_等离子体增强溅射技术中辅助阳极的性能模拟与参数优化_张以忱2013.md

## #真空离子镀

- 100_真空离子镀膜_张以忱.md

## #张力控制

- 06_卷到卷褶皱_郭毅2020.md
- 03_真空卷绕镀膜.md（前期学习）
- 207_真空卷绕镀膜_中频磁控卷绕设备性能指标与工艺窗口_张以忱2022.md
- 208_真空卷绕镀膜_海绵基材无拉伸卷绕与ITO-Ag-ITO在线监测_张以忱2022.md
- 210_真空卷绕镀膜_导向辊、镀膜鼓与冷热控设计_张以忱2022.md
- 211_真空卷绕镀膜_自动调偏、展平辊与数字张力控制_张以忱2022.md
- 212_真空卷绕镀膜_张力补偿与蒸发镀铝飞溅排障_张以忱2022.md

## #残余应力

- 08_Cu膜织构与应力_赵海阔2009.md
- 10_低应力金属膜_张龙2005.md
- 05_磁控溅射Cu膜织构与残余应力.md（前期学习）
- 190_镀层与氧化膜的内应力及其测定方法_安茂忠2001.md

## #复合集流体

- 09_PI基材Cu膜_王恩泽2023.md
- 12_N2气氛_胡宇浩2019.md
- 189_卷绕镀铜工艺对复合集流体电学性能影响研究_张艳鹏2023.md
- 191_一种基于聚丙烯基导电复合膜的柔性集流体及其制备方法_厦门长塑2023-发明专利.md

## #工艺参数

- 12_N2气氛_胡宇浩2019.md
- 13_Ar离子轰击_周序乐2009.md
- 10_低应力金属膜_张龙2005.md
- 189_卷绕镀铜工艺对复合集流体电学性能影响研究_张艳鹏2023.md
- 195_真空溅射镀膜_磁控溅射放电特性与功率效率_张以忱2016.md
- 196_真空溅射镀膜_膜厚均匀性与射频溅射_张以忱2016.md
- 198_真空溅射镀膜_反应磁控溅射的迟滞与靶中毒_张以忱2017.md
- 199_真空溅射镀膜_自动灭弧与中频交流反应磁控溅射_张以忱2017.md
- 205_真空溅射镀膜_反应磁控溅射打弧机理与抑制_张以忱2017.md
- 206_真空溅射镀膜_PEM控制与非对称脉冲溅射_张以忱2018.md
- 207_真空卷绕镀膜_中频磁控卷绕设备性能指标与工艺窗口_张以忱2022.md
- 208_真空卷绕镀膜_海绵基材无拉伸卷绕与ITO-Ag-ITO在线监测_张以忱2022.md

## #HiPIMS

- 11_HiPIMS进展_暴一品2015.md
- 07_辅助阳极_HiPIMS_李春伟2016.md

## #等离子体处理

- 13_Ar离子轰击_周序乐2009.md
- 09_PI基材Cu膜_王恩泽2023.md
- 14_阳极层离子源_冉彪2018.md

## #真空阀门

- 171_真空系统组成元件_王继常_阀门压紧机构.md

## #真空材料

- 188_真空材料_张以忱2001.md

## #真空检测

- 192_真空系统的检测技术_张以忱2004.md

## #真空维护

- 180_直流磁控溅射系统研究及其维护_吴海.md
- 192_真空系统的检测技术_张以忱2004.md
- 193_真空系统的操作与维护_张以忱2009.md

## #真空焊接

- 200_真空工程用焊接技术_张以忱2005.md

## #真空封接

- 201_真空工程封接技术_张以忱2007.md

## #真空系统元件

- 04_蒸汽流真空泵.md
- 16_冷凝捕集器.md
- 171_真空系统组成元件_王继常_阀门压紧机构.md
- 188_真空材料_张以忱2001.md
- 192_真空系统的检测技术_张以忱2004.md
- 193_真空系统的操作与维护_张以忱2009.md
- 200_真空工程用焊接技术_张以忱2005.md
- 201_真空工程封接技术_张以忱2007.md

## #磁场设计

- 195_真空溅射镀膜_磁控溅射放电特性与功率效率_张以忱2016.md
- 197_真空溅射镀膜_非平衡磁控溅射的磁场设计_张以忱2016.md
- 204_真空溅射镀膜_四靶非平衡磁场与带电粒子输运_张以忱2016.md
- 213_真空溅射镀膜_旋转圆柱靶与靶材利用率提升_张以忱2016.md

## #膜厚均匀性

- 156_基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制_黄云翔.md
- 186_基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制_黄云翔.md
- 196_真空溅射镀膜_膜厚均匀性与射频溅射_张以忱2016.md
- 213_真空溅射镀膜_旋转圆柱靶与靶材利用率提升_张以忱2016.md

## #射频溅射

- 196_真空溅射镀膜_膜厚均匀性与射频溅射_张以忱2016.md

## #非平衡磁控

- 197_真空溅射镀膜_非平衡磁控溅射的磁场设计_张以忱2016.md
- 204_真空溅射镀膜_四靶非平衡磁场与带电粒子输运_张以忱2016.md

## #反应溅射

- 198_真空溅射镀膜_反应磁控溅射的迟滞与靶中毒_张以忱2017.md
- 199_真空溅射镀膜_自动灭弧与中频交流反应磁控溅射_张以忱2017.md
- 205_真空溅射镀膜_反应磁控溅射打弧机理与抑制_张以忱2017.md
- 206_真空溅射镀膜_PEM控制与非对称脉冲溅射_张以忱2018.md

## #灭弧控制

- 199_真空溅射镀膜_自动灭弧与中频交流反应磁控溅射_张以忱2017.md
- 205_真空溅射镀膜_反应磁控溅射打弧机理与抑制_张以忱2017.md
- 206_真空溅射镀膜_PEM控制与非对称脉冲溅射_张以忱2018.md

## #真空基础

- 202_真空科学的发展及应用_李云奇1995.md
- 203_真空物理基础_张世伟1995.md


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**更新规则**：每写完一篇文献小结后，在对应标签下追加记录

## #卷绕镀膜

- 207_真空卷绕镀膜_中频磁控卷绕设备性能指标与工艺窗口_张以忱2022.md
- 208_真空卷绕镀膜_海绵基材无拉伸卷绕与ITO-Ag-ITO在线监测_张以忱2022.md
- 209_真空卷绕镀膜_多腔磁控卷绕与Low-E气氛隔离_张以忱2021.md
- 210_真空卷绕镀膜_导向辊、镀膜鼓与冷热控设计_张以忱2022.md
- 211_真空卷绕镀膜_自动调偏、展平辊与数字张力控制_张以忱2022.md
- 212_真空卷绕镀膜_张力补偿与蒸发镀铝飞溅排障_张以忱2022.md

## #在线监测

- 208_真空卷绕镀膜_海绵基材无拉伸卷绕与ITO-Ag-ITO在线监测_张以忱2022.md
- 209_真空卷绕镀膜_多腔磁控卷绕与Low-E气氛隔离_张以忱2021.md

## #Low-E

- 209_真空卷绕镀膜_多腔磁控卷绕与Low-E气氛隔离_张以忱2021.md

## #设备调试

- 212_真空卷绕镀膜_张力补偿与蒸发镀铝飞溅排障_张以忱2022.md

## #靶材利用率

- 213_真空溅射镀膜_旋转圆柱靶与靶材利用率提升_张以忱2016.md