— 基本信息 —
- 来源：SVC (1998)（1998）
- 链接：https://www.svc.org/clientuploads/directory/resource_library/98_463.pdf（访问：2026-04-14）

— 核心内容 —
- R2R溅射发展综述：平面磁控/旋转靶、脉冲DC与中频AC双阴极、PEM/λ探头闭环
- 旋转靶靶材利用率60–80%，高功率密度，长时间稳定运行
- “消失阳极”与打弧风险；建议用极性反转脉冲抑制

— 与文献/经验库印证 —
- 功率↑→ρ↓、卷绕速率与R□耦合、种子层+电镀路线，与既有结晶一致。

— 疑问/待确认 —
- 参数窗口对PP基材与后续电镀结合力的影响范围；速度/压强/能量管理的上限。

— 源快照文件 —
- 2026-04-14_SVC (1998)_Roll-to-Roll Sputter Web Coater—A Status Report.md