# 【79】Roll to Roll (R2R) Web Magnetron Sputtering Deposition Machine

## 基本信息
- **来源**：网页
- **发布平台**：Royal Source / Shanghai Royal Technology
- **发布日期**：页面未注明
- **阅读日期**：2026-04-20
- **置信度**：⭐⭐⭐

## 核心内容
- 这页最有价值的不是“又一个R2R设备名词”，而是把 **多区真空、多源沉积、预处理、张力/跑偏控制** 这些真正影响量产稳定性的模块公开到了一页里。
- 页面显示其路线是 **线性离子源前处理 + 四区真空架构 + 可逆卷绕 + 多源同程沉积**，说明友商已经把“连续多层、不断真空、多次走带对位”当成平台卖点。
- 对复合集流体/功能膜判断最有用的一点是：这类平台公开参数已经开始同时给 **幅宽、卷径、线速、张力、对位、均匀性**，说明卷绕控制和在线稳定性比单纯“能不能镀”更关键。


## 关键数据/结论
1. 页面给出膜厚窗口：**薄膜 20–40 nm，厚膜可到 1–2 μm**。
2. 公开适用基材厚度：**15–300 μm**；示例材料包括 **PET/PEN/PES/PI/PC/PA/TAC**。
3. 示例设备参数包括：**Web Width 1300 mm、Winding Diameter Φ600 mm Max、Web Line Speed 0.5–10 m/min、Web Tension 0.5–5.0 PLI、Web Alignment ±3 mm（one pass）**。
4. 平台配置了 **Linear Ion Source** 作为前处理模块，并采用 **4 个真空压力区（1 winding zone、2 deposition zones、1 buffer zone）**。
5. 页面强调 **Multi-Source simultaneous deposition in one web pass、Reversible web winding without breaking vacuum、Precision web handling with edge-guide（optional）**。
6. 给出的跨幅均匀性口径是 **±5% Across Web**，泵组为 **Turbo + dry pump & blower combination**。


## 与文献库/经验库的印证
- 与文献库 **106_阳极层离子源的发展及应用_冉彪2018**、**14_阳极层离子源_冉彪2018** 同向：离子源被明确放到独立前处理模块，而不是附属装置。
- 与文献库 **32_真空卷绕镀膜机控制系统的研究与开发_郑凯元2021**、**33_高精度卷绕真空镀膜设备张力控制技术研究_宋晓峰** 同向：公开能力边界已经落到线速度、张力、对位、分区与不停真空运行。
- 与网络库 **71_BeamTec_Linear Modular End-Hall Ion Sources**、**72_Agilent_Vacuum systems for roll to roll-web coatings**、**55_INTELLIVATION_INTELLIVATION R2R Series Vacuum Web Coating Systems** 的平台化判断一致。


## 个人理解
- 我更看重这页里“**4 pressure zones + linear ion source + reversible winding + alignment**”这一组字段，因为这比“用了磁控溅射”更接近平台真实难点。
- 如果后面老板看友商资料，我会优先抄这几类字段：**前处理、分区、卷径、张力、对位、是否支持不断真空多层沉积**。


## 疑问
- 页面像是产品页 + 样册摘录混合体，**1300 mm / 0.5–10 m/min / ±5%** 等字段是否全部对应同一机型，需人工复核。
- 张力单位使用 **PLI**，正式对比国内设备时最好换算为 N/宽度后再横向比较。