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/理论资料参考/文献资料-高置信/单篇文献小结/

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Name
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01_薄膜材料的表征与检测_郭杏元博士.md
4.3 KiB
02_薄膜与表面技术基础.md
1.8 KiB
03_真空卷绕镀膜.md
3.4 KiB
04_蒸汽流真空泵.md
1.8 KiB
05_磁控溅射Cu膜织构与残余应力.md
3.0 KiB
06_卷到卷褶皱_郭毅2020.md
1.3 KiB
07_辅助阳极_HiPIMS_李春伟2016.md
1.2 KiB
08_Cu膜织构与应力_赵海阔2009.md
1.2 KiB
09_PI基材Cu膜_王恩泽2023.md
1.2 KiB
100_真空离子镀膜_张以忱_真空阴极电弧离子镀.md
2.4 KiB
100_铜镍磁控溅射梯度复合集流体及其制备方法_李华清2024.md
5.0 KiB
101_弧光放电氩离子清洗源_王福贞2019.md
5.5 KiB
102_定向离子清洗对基片表面性质的影响_张大伟.md
5.1 KiB
103_离子束辅助沉积技术_李文治.md
4.8 KiB
104_常压低温等离子体处理工艺对聚丙烯表面性能影响_孙刚2021.md
5.0 KiB
105_常压等离子体表面亲水化改性聚丙烯薄膜_费正东2011.md
4.3 KiB
106_阳极层离子源的发展及应用_冉彪2018.md
5.0 KiB
107_低功率圆柱形阳极层离子源的性能研究_赵杰2009.md
4.5 KiB
108_冷常压等离子处理提高聚丙烯表面的附着力_Kehrer2020.md
5.2 KiB
109_超薄柔性基材双面磁控溅射卷绕镀铜关键技术研究_罗军文2025.md
5.7 KiB
10_低应力金属膜_张龙2005.md
1.2 KiB
110_卷对卷原子层沉积设备的张力控制系统_宋光亮2021.md
4.0 KiB
111_卷对卷工艺制备柔性硅基薄膜电池研究进展_杨君坤.md
3.9 KiB
112_高功率脉冲磁控溅射及复合技术的研究进展_张蕊2025.md
4.7 KiB
113_持续高功率磁控溅射技术高速制备挠性覆铜板Cu膜_刘亮亮2020.md
5.1 KiB
114_磁控溅射Cu膜的织构与残余应力_赵海阔2009.md
4.3 KiB
115_沉积参数对磁控溅射镀金膜残余应力的影响_刘明智2020.md
5.1 KiB
116_PI柔性基材磁控溅射Cu膜的制备工艺及性能研究_王恩泽.md
4.6 KiB
117_PP基材表面磁控共溅射制备新型阻隔薄膜_朱琳2015.md
4.3 KiB
119_真空卷绕镀膜机控制系统的研究与开发_郑凯元2021.md
4.9 KiB
11_HiPIMS进展_暴一品2015.md
1.1 KiB
120_基于模糊控制的卷对卷工艺张力控制系统_田迪.md
4.6 KiB
121_真空镀膜机收卷系统结构设计及恒张力控制方法研究_李斌2018.md
4.6 KiB
122_高精度卷绕真空镀膜设备张力控制技术研究_宋晓峰博士论文.md
5.7 KiB
123_卷到卷系统导向辊表面的薄膜褶皱行为研究_郭毅2020.md
4.2 KiB
123_氩离子轰击和溅射功率对Cu薄膜结构及性能的影响_周序乐.md
3.0 KiB
124_超薄柔性基材真空双面磁控溅射卷绕镀铜关键技术研究_罗军文2025.md
6.4 KiB
125_卷对卷原子层沉积设备张力控制系统_宋光亮2021.md
4.1 KiB
126_基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制_黄云翔2015.md
3.1 KiB
127_基于卷对卷镀膜技术制造大面积柔性非晶硅薄膜太阳电池_蒋帅等.md
4.2 KiB
128_卷对卷技术制备钙钛矿太阳能电池的研究进展_赵佳薇2025.md
3.5 KiB
129_柔性材料卷对卷系统多域特征参数提取_周慧巧2019.md
3.5 KiB
12_N2气氛_胡宇浩2019.md
1.2 KiB
130_柔性卷绕镀膜真空隔离技术_张红2019.md
3.4 KiB
131_柔性基金属互联线路的卷对卷制备工艺_程思元2021.md
3.6 KiB
132_卷对卷工艺制备柔性硅基薄膜电池研究进展_杨君坤等.md
4.0 KiB
133_电磁加热辊的基本原理及其在轻纺行业上的应用_金效东2020.md
3.0 KiB
134_本底真空对磁控溅射镍铬合金薄膜电阻的影响_胡东平2016.md
4.0 KiB
135_氩离子轰击和溅射功率对Cu薄膜结构及性能的影响_周序乐2009.md
4.9 KiB
136_直流磁控溅射系统研究及其维护_吴海2024.md
5.3 KiB
137_含N2气氛下磁控溅射沉积银薄膜的结构与性能研究_胡宇浩2019.md
3.6 KiB
139_铜镍磁控溅射梯度复合集流体及其制备方法_李华清2024.md
4.4 KiB
13_Ar离子轰击_周序乐2009.md
1.2 KiB
140_薄膜厚度对Cu膜光电性能的影响_李爱丽2008.md
3.6 KiB
141_常压低温等离子体处理工艺对聚丙烯表面润湿张力的影响_孙刚2022.md
4.2 KiB
142_真空溅射镀膜技术讲座_张以忱2015.md
4.6 KiB
143_真空离子镀膜技术讲座_张以忱2019.md
4.7 KiB
144_真空卷绕镀膜技术讲座_张以忱2022.md
4.2 KiB
145_真空工艺技术讲座_张以忱2003.md
3.9 KiB
146_薄膜与表面技术基础讲座_张以忱2011.md
4.1 KiB
147_薄膜材料的表征与检测_郭杏元2024.md
4.6 KiB
148_气体捕集式真空泵_徐成海1996.md
2.0 KiB
148_真空测量技术讲座_刘玉岱1997.md
2.7 KiB
149_真空系统设计讲座_王继常1998.md
2.4 KiB
14_阳极层离子源_冉彪2018.md
1.2 KiB
150_真空密封技术讲座_王继常2001.md
2.6 KiB
151_应力对薄膜结构与性能影响的研究现状_冉春华2013.md
3.4 KiB
152_磁控溅射Cu膜的织构与残余应力_赵海阔2009.md
3.7 KiB
153_沉积参数对磁控溅射镀金膜残余应力与微观形貌的影响_刘明智2020.md
3.3 KiB
153_沉积参数对磁控溅射镀金膜残余应力的影响_刘明智2020.md
3.4 KiB
154_基于模糊控制的卷对卷工艺张力控制系统_田迪.md
2.0 KiB
155_柔性基金属互联线路的卷对卷制备工艺_程思元2021.md
1.9 KiB
156_基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制_黄云翔2015.md
1.5 KiB
157_阳极层离子源的发展及应用_冉彪2018.md
2.9 KiB
158_辅助阳极对HiPIMS放电特性的影响_李春伟2016.md
3.8 KiB
159_定向离子清洗对基片表面性质的影响_张大伟.md
1.5 KiB
15_氩离子轰击和溅射功率对Cu薄膜结构及性能的影响_周序乐.md
4.4 KiB
15_阳极层离子源_冉彪2018.md
2.4 KiB
160_表面无损等离子体处理聚丙烯粘结强度产生机理分析_李国明2022.md
2.2 KiB
161_薄膜应力研究_邵淑英2005.md
1.7 KiB
162_磁控溅射制备低应力金属膜的工艺研究_张龙2005.md
1.8 KiB
163_一种增强锂电池复合集流体基膜结合力的方法.md
1.9 KiB
164_弧光放电氩离子清洗源_王福贞2019.md
2.0 KiB
165_低功率圆柱形阳极层离子源的性能研究_赵杰2009.md
1.4 KiB
166_氩离子轰击和溅射功率对Cu薄膜的影响_周序乐2009.md
2.5 KiB
167_铜镍磁控溅射梯度复合集流体及其制备方法_李华清2024.md
1.8 KiB
169_薄膜厚度对Cu膜光电性能的影响_李爱丽2008.md
1.9 KiB
16_基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制_黄云翔.md
4.6 KiB
16_真空系统组成元件_冷凝捕集器_王继常.md
2.3 KiB
170_本底真空对磁控溅射镍铬合金薄膜电阻的影响_胡东平2016.md
1.9 KiB
171_真空系统组成元件_王继常_阀门压紧机构.md
3.3 KiB
172_磁控溅射工艺参数和材料对Cu薄膜性能影响的研究进展_刘冰2025.md
3.4 KiB
172_磁控溅射工艺参数和材料对铜薄膜性能影响的研究进展_刘冰2025.md
4.3 KiB
173_卷到卷系统导向辊表面的薄膜褶皱行为研究_郭毅.md
4.0 KiB
174_柔性卷绕镀膜真空隔离技术_张红.md
3.1 KiB
175_超薄柔性基材真空双面磁控溅射卷绕镀铜关键技术研究_罗军文.md
4.1 KiB
176_含N2气氛下磁控溅射沉积银薄膜的结构与性能研究_胡宇浩.md
4.7 KiB
177_真空卷绕镀膜机控制系统的研究与开发_郑凯元.md
4.3 KiB
178_柔性材料卷对卷系统多域特征参数提取_周惠巧.md
4.2 KiB
179_基于模糊控制的卷对卷工艺张力控制系统_田迪.md
3.3 KiB
17_大气压氩等离子体射流改性_刘源.md
3.0 KiB
17_直流磁控溅射系统研究及其维护_吴海.md
5.3 KiB
180_直流磁控溅射系统研究及其维护_吴海.md
4.0 KiB
181_卷对卷原子层沉积设备的张力控制系统开发及应用_宋光亮.md
4.8 KiB
182_真空镀膜机收卷系统结构设计及恒张力控制方法研究_李斌.md
4.8 KiB
183_高精度卷绕真空镀膜设备张力控制技术研究_宋晓峰.md
4.4 KiB
184_PP基材表面磁控共溅射制备新型阻隔薄膜的研究_朱琳.md
2.9 KiB
185_卷绕式磁控溅射柔性镀膜机_东泰高科2019-实用新型.md
5.0 KiB
186_基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制_黄云翔.md
12 KiB
187_超薄柔性基材真空双面磁控溅射卷绕镀铜关键技术研究 (3)_未知-待定.md
2.4 KiB
188_真空材料_张以忱2001.md
4.6 KiB
189_卷绕镀铜工艺对复合集流体电学性能影响研究_张艳鹏2023.md
4.6 KiB
18_真空离子镀膜_张以忱.md
1.4 KiB
18_薄膜厚度对Cu膜光电性能的影响_李爱丽.md
5.2 KiB
190_镀层与氧化膜的内应力及其测定方法_安茂忠2001.md
4.0 KiB
191_一种基于聚丙烯基导电复合膜的柔性集流体及其制备方法_厦门长塑2023-发明专利.md
4.1 KiB
192_真空系统的检测技术_张以忱2004.md
3.9 KiB
193_真空系统的操作与维护_张以忱2009.md
3.9 KiB
194_等离子体增强溅射技术中辅助阳极的性能模拟与参数优化_张以忱2013.md
3.7 KiB
195_真空溅射镀膜_磁控溅射放电特性与功率效率_张以忱2016.md
7.2 KiB
196_真空溅射镀膜_膜厚均匀性与射频溅射_张以忱2016.md
5.3 KiB
197_真空溅射镀膜_非平衡磁控溅射的磁场设计_张以忱2016.md
5.6 KiB
198_真空溅射镀膜_反应磁控溅射的迟滞与靶中毒_张以忱2017.md
7.1 KiB
199_真空溅射镀膜_自动灭弧与中频交流反应磁控溅射_张以忱2017.md
6.5 KiB
19_HiPIMS研究进展_暴一品.md
2.0 KiB
19_磁控溅射工艺参数和材料对铜薄膜性能影响的研究进展_刘冰.md
5.4 KiB
200_真空工程用焊接技术_张以忱2005.md
3.9 KiB
201_真空工程封接技术_张以忱2007.md
4.2 KiB
202_真空科学的发展及应用_李云奇1995.md
3.7 KiB
203_真空物理基础_张世伟1995.md
4.2 KiB
204_真空溅射镀膜_四靶非平衡磁场与带电粒子输运_张以忱2016.md
5.5 KiB
205_真空溅射镀膜_反应磁控溅射打弧机理与抑制_张以忱2017.md
5.7 KiB
206_真空溅射镀膜_PEM控制与非对称脉冲溅射_张以忱2018.md
5.0 KiB
207_真空卷绕镀膜_中频磁控卷绕设备性能指标与工艺窗口_张以忱2022.md
6.1 KiB
208_真空卷绕镀膜_海绵基材无拉伸卷绕与ITO-Ag-ITO在线监测_张以忱2022.md
6.4 KiB
209_真空卷绕镀膜_多腔磁控卷绕与Low-E气氛隔离_张以忱2021.md
4.0 KiB
20_本底真空对磁控溅射镍铬合金薄膜电阻的影响_胡东平.md
2.2 KiB
20_真空卷绕镀膜_张以忱.md
5.2 KiB
20b_真空卷绕镀膜设备结构_张以忱.md
4.3 KiB
20c_真空蒸发原理与类型_张以忱.md
5.1 KiB
210_真空卷绕镀膜_导向辊、镀膜鼓与冷热控设计_张以忱2022.md
4.4 KiB
211_真空卷绕镀膜_自动调偏、展平辊与数字张力控制_张以忱2022.md
4.6 KiB
212_真空卷绕镀膜_张力补偿与蒸发镀铝飞溅排障_张以忱2022.md
4.6 KiB
213_真空溅射镀膜_旋转圆柱靶与靶材利用率提升_张以忱2016.md
4.8 KiB
214_界面与薄膜附着_张以忱2012.md
6.8 KiB
215_薄膜附着力测量与表面活化增粘_张以忱2012.md
9.2 KiB
216_真空卷绕镀膜_在线光学监测与镀铝断膜排障_张以忱2021.md
7.3 KiB
217_真空卷绕镀膜_多蒸发源排布与膜厚均匀性优化_张以忱2022.md
7.3 KiB
218_真空溅射镀膜_中频反应溅射速率与稳定运行_张以忱2017.md
8.3 KiB
21_持续高功率磁控溅射技术高速制备挠性覆铜板Cu膜_刘亮亮.md
5.5 KiB
21_辅助阳极性能研究_赵金艳.md
1.7 KiB
22_卷对卷张力控制系统_田迪.md
2.5 KiB
23_化学气相沉积（CVD）技术_张以忱.md
3.8 KiB
31_超薄柔性基材真空双面磁控溅射卷绕镀铜关键技术研究_罗军文2025.md
3.8 KiB
31_高功率脉冲磁控溅射及复合技术的研究进展_张蕊2025.md
2.7 KiB
32_真空卷绕镀膜机控制系统的研究与开发_郑凯元2021.md
3.7 KiB
33_高精度卷绕真空镀膜设备张力控制技术研究_宋晓峰.md
4.2 KiB
34_柔性卷绕镀膜真空隔离技术_张红2019.md
3.5 KiB
35_卷对卷原子层沉积设备的张力控制系统开发及应用_宋光亮2021.md
3.1 KiB
36_电磁加热辊的基本原理及其在轻纺行业上的应用_金效东2020.md
2.8 KiB
37_真空镀膜机收卷系统结构设计及恒张力控制方法研究_李斌.md
2.7 KiB
38_柔性材料卷对卷系统多域特征参数提取_周慧巧2019.md
3.1 KiB
39_卷对卷工艺制备柔性硅基薄膜电池研究进展_杨君坤.md
2.9 KiB
40_沉积参数对磁控溅射镀金膜残余应力的影响_刘明智2020.md
3.3 KiB
41_应力对薄膜结构与性能影响的研究现状_冉春华2013.md
3.9 KiB
42_磁控溅射Cu膜的织构与残余应力_赵海阔2009.md
3.6 KiB
43_氩离子轰击和溅射功率对Cu薄膜的影响_周序乐2009.md
3.8 KiB
44_本底真空对磁控溅射镍铬合金薄膜电阻的影响_胡东平2016.md
3.6 KiB
45_磁控溅射工艺参数和材料对Cu薄膜性能影响的研究进展_刘冰2025.md
4.9 KiB
46_薄膜厚度对Cu膜光电性能的影响_李爱丽2008.md
3.3 KiB
47_基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制_黄云翔2015.md
3.7 KiB
48_磁控溅射制备低应力金属膜的工艺研究_张龙2005.md
4.6 KiB
49_含N2气氛下磁控溅射沉积银薄膜的结构与性能研究_胡宇浩2019.md
4.6 KiB
50_HiPIMS及复合技术的研究进展_张蕊2025.md
3.7 KiB
51_持续高功率磁控溅射技术高速制备挠性覆铜板Cu膜_刘亮亮2020.md
4.3 KiB
52_PI柔性基材Cu膜结合力研究_王恩泽.md
2.3 KiB
53_阳极层离子源的发展及应用_冉彪2018.md
3.5 KiB
54_辅助阳极对HiPIMS放电特性的影响_李春伟2016.md
3.7 KiB
55_冷常压等离子处理PP表面附着力_Kehrer2020.md
3.4 KiB
56_低功率圆柱形阳极层离子源性能研究_赵杰2009.md
3.2 KiB
57_定向离子清洗对基片表面性质的影响_张大伟.md
3.0 KiB
58_大气压氩等离子体射流改性PP薄膜_刘源2012.md
3.6 KiB
59_PP基材磁控共溅射TiN_CF阻隔薄膜_朱琳2015.md
3.5 KiB
60_氩离子轰击和溅射功率对Cu薄膜的影响_周序乐2009.md
4.2 KiB
61_直流磁控溅射系统研究及其维护_吴海2024.md
3.6 KiB
62_超薄柔性基材双面磁控溅射卷绕镀铜关键技术_罗军文2025.md
3.9 KiB
63_PI柔性基材磁控溅射Cu膜制备工艺及性能研究_王恩泽.md
4.4 KiB
64_卷对卷原子层沉积设备张力控制系统_宋光亮2021.md
3.1 KiB
65_真空卷绕镀膜机控制系统研究与开发_郑凯元2021.md
2.0 KiB
66_卷对卷技术制备钙钛矿太阳能电池研究进展_赵佳薇2025.md
2.6 KiB
67_真空镀膜机收卷系统结构设计及恒张力控制_李斌2018.md
2.7 KiB
68_含N2气氛磁控溅射沉积银薄膜_胡宇浩2019.md
3.4 KiB
69_常压低温等离子体处理PP表面润湿张力_孙刚2022.md
3.7 KiB
70_薄膜厚度对Cu膜光电性能的影响_李爱丽2008.md
3.7 KiB
71_本底真空对NiCr合金薄膜电阻的影响_胡东平2016.md
3.6 KiB
72_磁控溅射Cu膜的织构与残余应力_赵海阔2009.md
4.0 KiB
73_沉积参数对磁控溅射镀金膜残余应力的影响_刘明智2020.md
4.0 KiB
74_磁控溅射制备低应力金属膜工艺研究_张龙2005.md
4.4 KiB
75_应力对薄膜结构与性能影响研究现状_冉春华2013.md
4.2 KiB
76_高功率脉冲磁控溅射及复合技术研究进展_张蕊2025.md
4.3 KiB
77_筒形高功率脉冲磁控溅射源开发_肖舒2016.md
3.8 KiB
78_实现低气压射频辉光放电的电极设计_苏永飞2020.md
4.0 KiB
79_C-HPMS高速制备挠性覆铜板Cu膜_刘亮亮2020.md
5.7 KiB
80_超薄柔性基材双面磁控溅射卷绕镀铜关键技术_罗军文2025.md
6.0 KiB
81_卷对卷ALD设备张力控制系统_宋光亮2021.md
4.5 KiB
82_卷对卷矩形靶溅射膜厚均匀性控制_黄云翔2015.md
4.6 KiB
83_PI基材磁控溅射Cu膜工艺及性能_王恩泽.md
4.7 KiB
85_辅助阳极性能研究_赵金艳2012.md
5.1 KiB
86_辅助阳极对HiPIMS放电特性影响_李春伟2016.md
5.2 KiB
87_真空系统设计_王继常1998.md
4.3 KiB
88_真空测量_刘玉岱1996.md
4.8 KiB
89_真空检漏_关奎之1997.md
4.6 KiB
90_真空密封_王继常2000.md
5.2 KiB
91_超薄柔性基材双面磁控溅射卷绕镀铜_罗军文2025.md
6.4 KiB
92_高精度卷绕真空镀膜设备张力控制技术研究_宋晓峰.md
5.1 KiB
93_卷对卷ALD张力控制系统开发及应用_宋光亮2021.md
4.0 KiB
94_卷到卷系统导向辊表面的薄膜褶皱行为研究_郭毅2020.md
3.8 KiB
95_基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制_黄云翔2015.md
4.5 KiB
96_真空镀膜机收卷系统结构设计及恒张力控制方法研究_李斌2018.md
4.3 KiB
97_薄膜应力研究_邵淑英2005.md
5.4 KiB
98_PI柔性基材表面磁控溅射Cu膜的制备工艺及性能研究_王恩泽.md
5.3 KiB
99_含N2气氛下磁控溅射沉积银薄膜_胡宇浩2019.md
4.8 KiB
README.md
1.3 KiB
偏压吸附研究报告_约翰逊拉贝克效应.md
10 KiB